[发明专利]用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置无效
| 申请号： | 200810030898.1 | 申请日： | 2008-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101249626A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 彭小强;戴一帆;李圣怡;王建敏;胡皓;宋辞;刘晓东 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | B24B13/02 | 分类号： | B24B13/02;B24B57/02;B24B41/02 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 赵洪 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置，它包括机床、抛光装置、用来提供稳定性能抛光液的磁流变抛光液循环系统以及与以上各组件相连的控制系统，机床具有四个或四个以上的自由度，抛光装置固定于机床上并位于机床上待加工工件的正上方。本发明是一种结构简单紧凑、成本低廉、控制简单、适用范围广、加工能力强的用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 口径 球面 光学 零件 流变 抛光 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置，其特征在于：它包括机床(1)、抛光装置(2)、用来提供稳定性能抛光液的磁流变抛光液循环系统(3)以及与以上各组件相连的控制系统，机床(1)具有四个或四个以上的自由度，抛光装置(2)固定于机床(1)上并位于机床(1)上待加工工件的正上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学，未经中国人民解放军国防科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810030898.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
