[发明专利]直接用硫酸铝制取超细晶体α-氧化铝的生产工艺有效

专利信息
申请号: 200810029525.2 申请日: 2008-07-16
公开(公告)号: CN101327944A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 孙志昂;贺广浩;肖志业 申请(专利权)人: 孙志昂;贺广浩;肖志业
主分类号: C01F7/32 分类号: C01F7/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 450000河南省郑州*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种直接用硫酸铝制取超细晶体α-氧化铝的生产工艺,其生产工艺是:将硫酸铝粉碎后加热脱除附着水和结晶水,加热温度为300~600℃;将脱水后的产物在脱硫隧道中以电加热的方式密闭脱除硫分,加热温度为700~900℃;将脱硫后的产物在高温炉中加热进行转相煅烧,煅烧温度为1100~1400℃;最后将产物破碎分散即得到超细晶体a-氧化铝;将脱硫产生的三氧化硫气体进行回收制酸。本发明生产工艺简单、生产成本低、可规模化生产,原料储量丰富易得,采用本发明生产工艺制得的α-氧化铝晶体颗粒及其细微和均一,具有天然的超细晶体粒径,且粒度分布集中。
搜索关键词: 直接 硫酸铝 制取 晶体 氧化铝 生产工艺
【主权项】:
1、一种直接用硫酸铝制取超细晶体α-氧化铝的生产工艺,其特征在于:所述生产工艺包括下述步骤:(1)将硫酸铝粉碎后加热脱除硫酸铝中的附着水和结晶水,加热温度为300~600℃;(2)将第(1)步得到的产物在脱硫隧道中以电加热的方式密闭脱除硫分,加热温度为700~900℃;(3)将第(2)步得到的产物在高温炉中进行转相煅烧,煅烧温度为1100~1400℃;(4)将第(3)步得到的产物破碎分散。(5)将脱硫产生的三氧化硫气体进行回收制酸。
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