[发明专利]纳米修饰高分子荧光材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200810022119.3 申请日: 2008-06-23
公开(公告)号: CN101338192A 公开(公告)日: 2009-01-07
发明(设计)人: 路建美;董延茂;徐庆锋;王丽华 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;C08F8/34;C08F12/08;C08K3/30
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 陶海锋
地址: 215123江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种纳米修饰高分子荧光材料,它是由纳米硫化物修饰巯甲基化聚苯乙烯而成的,所述纳米硫化物选自纳米硫化镉、纳米硫化铜、纳米硫化锌、纳米硫化锰中的一种。其制备方法是,首先由4-乙烯基苄氯和苯乙烯聚合反应,制备氯甲基化聚苯乙烯;再进行巯甲基化,获得巯甲基化聚苯乙烯;最后原位合成纳米粒子,得到所需纳米修饰高分子材料。本发明获得的材料具有多端基修饰、纳米粒子含量可控、高分子经修饰后荧光增强和存在荧光位移的特点,在离子检测、光电能量转化方面具有一定的应用潜能。
搜索关键词: 纳米 修饰 高分子 荧光 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种纳米修饰高分子荧光材料,其特征在于:它是由纳米硫化物修饰巯甲基化聚苯乙烯而成的,所述纳米硫化物选自纳米硫化镉、纳米硫化铜、纳米硫化锌、纳米硫化锰中的一种。
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