[发明专利]光刻机曝光系统

摘要

本发明涉及半导体制造领域，为一种光刻机曝光系统及其控制方法。它包括LED光源、曝光控制系统、上位机等，系统与上位机连接，上位机输出控制信号至空间图形发生器SLM，空间图形发生器SLM产生曝光图形，LED光源发出的光束经过光路组件A、空间图形发生器SLM、光路组件B、分束器、物镜后照射基片，光电探测器B检测分束器分出的光束信号并将输出送至曝光控制系统，曝光控制系统的输出送至驱动电路，驱动电路的输出送至LED光源以控制其输出光功率和曝光剂量。它克服了现有技术中曝光功率波动对曝光剂量的影响等问题，具有曝光剂量控制精度高、体积小、功耗低、无机械运动部件、反应迅速、寿命长、成本低等优点。

主权项

1.光刻机曝光系统，包括LED光源[1]、曝光控制系统[2]、驱动电路[3]、光电探测器A[4]、光电探测器B[5]、分束器[6]、光路组件A[7]、光路组件B[8]、空间图形发生器SLM[9]、物镜[10]、上位机[11]，其特征在于：曝光控制系统[2]与上位机[11]连接，上位机[11]输出控制信号至空间图形发生器SLM[9]，空间图形发生器SLM[9]产生曝光图形，LED光源[1]发出的光束经过光路组件A[7]、空间图形发生器SLM[9]、光路组件B[8]、分束器[6]、物镜[10]后照射基片[12]，光电探测器A[4]检测LED光源[1]的输出光信号并将输出送至驱动电路[3]，光电探测器B[5]检测分束器[6]分出的光束信号并将输出送至曝光控制系统[2]，曝光控制系统[2]的输出送至驱动电路[3]，驱动电路[3]的输出送至LED光源[1]以控制其输出光功率和曝光剂量。