[发明专利]一种矩形平面磁控溅射阴极无效
| 申请号： | 200810020139.7 | 申请日： | 2008-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101250687A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 陈长琦;郭江涛;王君 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 | 代理人： | 何梅生 |
| 地址： | 230009*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种矩形平面磁控溅射阴极，具有靶材、阴极组件和设置在阴极组件外围的屏蔽罩，阴极组件中，磁路机构固定设置在靶座上并位于阴极体的内部，靶材固定设置在靶座的下部；其特征是在阴极组件的外周、位于屏蔽罩的内侧或外侧，整周设置导磁板。本发明可有效提高溅射过程的稳定性、提高靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 矩形 平面 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
1. 一种矩形平面磁控溅射阴极，具有靶材(27)、阴极组件和设置在阴极组件外围的屏蔽罩(2)，所述阴极组件中，磁路机构固定设置在靶座(30)上并位于阴极体(7)的内部，靶材(27)固定设置在靶座(30)的下部；其特征是在所述阴极组件的外周、位于屏蔽罩(2)的内侧或外侧，整周设置导磁板(23)。
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