[发明专利]基于方形高次模腔体的基片集成波导多模滤波器有效

专利信息
申请号: 200810019061.7 申请日: 2008-01-11
公开(公告)号: CN101217209A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 董元旦;洪伟 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01P1/207 分类号: H01P1/207;H01P1/20;H01P5/08
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 叶连生
地址: 21009*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 基于方形高次模腔体的基片集成波导多模滤波器的介质基片(1)上表面和下表面分别敷有上表面金属(7)和下表面金属(8),金属化通孔阵列(2)贯穿于介质基片(1)、上表面金属(7)和下表面金属(8);起调节不同模式的本征频率以及模式间的耦合作用的第一感性柱(3)和第二感性柱(4)位于金属化通孔阵列(2)围成的方形腔体内部;方形腔体相邻的两条边上分别设有第一金属柱感性窗(7)、第二金属柱感性窗(8),腔体通过金属柱感性窗实现能量的输入和输出耦合;第一金属化通孔阵列(5)和第二金属化通孔阵列(6)分别位于第一金属柱感性窗(7)、第二金属柱感性窗(8),对应于滤波器腔体的输入和输出,它们和外部电路相连接。
搜索关键词: 基于 方形 高次模腔体 集成 波导 滤波器
【主权项】:
1.一种基于方形高次模腔体的基片集成波导多模滤波器,其特征在于该滤波器的介质基片(1)上表面和下表面分别敷有上表面金属(7)和下表面金属(8),金属化通孔阵列(2)贯穿于介质基片(1)、上表面金属(7)和下表面金属(8);起调节不同模式的本征频率以及模式间的耦合作用的第一感性柱(3)和第二感性柱(4)位于金属化通孔阵列(2)围成的方形腔体内部;方形腔体相邻的两条边上分别设有第一金属柱感性窗(7)、第二金属柱感性窗(8),腔体通过金属柱感性窗实现能量的输入和输出耦合;第一金属化通孔阵列(5)和第二金属化通孔阵列(6)分别位于第一金属柱感性窗(7)、第二金属柱感性窗(8),对应于滤波器腔体的输入和输出,它们和外部电路相连接;通过调节第一金属化通孔阵列(5)和第二金属化通孔阵列(6),可以利用波导截止频率理论,将主模及其它低次模的影响抑制或减弱。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810019061.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top