[发明专利]一种采用灰度补偿制提高光刻曝光能量均匀性的方法

摘要

本发明公开了一种采用灰度补偿制提高光刻曝光能量均匀性的方法，适用于使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻机，使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻机中利用空间光调制器的灰度调制能力，依据CCD采集得到光刻物镜像面光强分布信息，通过调制空间光调制器各像素单元的光输出，来改变光刻物镜像面的出射光场分布：由一定微小时间内积分测量出来的光强分布，或者在一定曝光时间内各个像面位置点所发出的光的能量分布，使之像面各位置曝光能量一致，它有效的降低了传统光刻机照明系统的设计、装调难度，能够轻易达到优异的曝光能量均匀性。

主权项

1.一种采用灰度补偿制提高光刻曝光能量均匀性的方法，其特征在于在使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻系统中，使用CCD采集光刻物镜像面的光强数据，输入计算机分析CCD所采集的光场强度信息强弱位置分布，并参考当前空间光调制器件的输出情况，调制空间光调制器件各像素单元的输出光强度或时间，使得像面各位置曝光能量趋于一致，并通过重复上述过程，调制空间光调制器件各像素单元的输出光，以使得一次曝光过程中光刻物镜像面上各位置的曝光能量一致。