[发明专利]料架可旋转立式真空高压气淬炉有效

专利信息
申请号: 200810012387.7 申请日: 2008-07-18
公开(公告)号: CN101319272A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 杨建川;石岩;曲绍芬;张晓东;赵建业;顾景文 申请(专利权)人: 沈阳恒进真空科技有限公司
主分类号: C21D1/62 分类号: C21D1/62;C21D1/613;C21D1/773
代理公司: 沈阳科威专利代理有限责任公司 代理人: 崔红梅
地址: 110168辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 料架可旋转的立式真空高压气淬炉,为立式下开门、底装料式真空炉,包括以工控机及PLC为主的控制系统,其特征是下炉门内侧内圆设旋转平台支座,支座上同轴安装旋转圆盘、料架,旋转圆盘下部同轴安装大齿轮,偏心设置的旋转驱动机构上的小齿轮与大齿轮周啮合,驱动旋转圆盘转动,使承载工件的料架可以绕垂直中心轴旋转;料架根部设较厚隔热层,加热室下屏保温层为环形、两者之间有环台形间隙;转盘及其上的隔热层、料架,以及旋转驱动机构都随炉门一同升降;真空炉采用PLC技术控制,各种动作、炉内温度和料架旋转均连锁控制。该设备能够保证各部位的工件受热均匀一致,在真空、正压、动密封、保温、冷却等性能都得到了较好的保证。
搜索关键词: 料架可 旋转 立式 真空 压气
【主权项】:
1、一种料架可旋转的立式真空高压气淬炉,为立式下开门、底装料式真空炉,包括以工控机及PLC为主的控制系统,其特征是下炉门(10)内侧内圆设旋转平台支座(9),支座(9)上同轴安装旋转圆盘(6)、料架(8),旋转圆盘(6)下部同轴安装大齿轮(5),偏心设置的旋转驱动机构(1)上的小齿轮(3)与大齿轮(5)周啮合,驱动旋转圆盘(6)转动,使承载工件的料架(8)可以绕垂直中心轴(4)旋转;料架(8)根部设较厚隔热层(7),加热室下屏保温层(11)为环形、两者之间有环台形间隙;旋转圆盘(6)及其上的隔热层(7)、料架(8),以及旋转驱动机构(1)都随下炉门(10)一同升降;真空炉采用PLC技术,各种动作、炉内温度和料架旋转均连锁控制。
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