[发明专利]光学构件无效
| 申请号： | 200810008981.9 | 申请日： | 2008-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN101241196A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木洋;杉林真己子;中村清美;西村贞之;平田浩二;久田隆纪;安达启 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11;G02B1/00;G02B3/00;G02B5/04;G02B5/30;G02B5/08;G03B21/28;G02F1/13357;G09F9/30;E04D13/18;H02N6/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光学构件，所述光学构件具有利用涂敷法形成的反射膜、增反射膜、防反射膜。所述光学构件具有光学构件母体和在前述光学构件母体上交替层叠成的第1及第2无机化合物层，所述第1无机化合物层包含具有水解性残基的钛化合物和亲油性蒙脱石，与所述光学构件母体相比，为高折射率，所述第2无机化合物层含有氧化硅，与所述光学构件母体相比，为低折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 构件 | ||
【主权项】：
1.一种光学构件，其特征在于，具备：光学构件母体；无机化合物层，其设置在所述光学构件母体上，并且包含具有水解性残基的钛化合物和亲油性蒙脱石，而且其折射率比所述光学构件母体高；其他无机化合物层，其设置在所述无机化合物层上，并且折射率比所述光学构件母体低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所，未经株式会社日立制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810008981.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种自动温控加热装置
- 下一篇：一种密封性好的PVC管组
