[发明专利]成像系统有效
申请号: | 200780031799.9 | 申请日: | 2007-08-28 |
公开(公告)号: | CN101505661A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
发明(设计)人: | C·邦图斯;M·格拉斯;T·克勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王 英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种用于对感兴趣区域进行成像的成像系统,特别是涉及一种计算机断层摄影系统。该成像系统包括照射单元(2),其沿着第一轨迹(501)相对于感兴趣区域运动,以及沿着第二轨迹(503)相对于感兴趣区域运动。当照射单元(2)沿着第一轨迹(501)运动时,采集第一探测数据,并且当照射单元(2)沿着第二轨迹(503)运动时,采集第二探测数据。至少根据第二探测数据来重建所述感兴趣区域的中间图像,用通过中间图像的正投影来确定虚拟探测数据。最终,根据所述第一探测数据和虚拟探测数据重建感兴趣区域的图像。 | ||
搜索关键词: | 成像 系统 | ||
【主权项】:
1、用于对感兴趣区域进行成像的成像系统,包括:-照射单元(2),其发射辐射(4),以照射所述感兴趣区域;-移动单元(1、7、8),用于沿着第一轨迹(501)相对于所述感兴趣区域移动所述照射单元(2),并且用于沿着第二轨迹(503)移动所述照射单元(2);-探测单元(6),用于当所述照射单元(2)沿着所述第一轨迹(501)运动时,探测第一探测数据,所述第一探测数据取决于穿过所述感兴趣区域之后的所述辐射(4),并且用于当沿着所述第二轨迹(501)照射所述感兴趣区域时,探测第二探测数据,所述第二探测数据取决于穿过所述感兴趣区域之后的所述辐射(4);-重建单元(13),用于至少根据所述第二探测数据来重建所述感兴趣区域的中间图像,并且用于根据所述第一探测数据和虚拟探测数据来重建所述感兴趣区域的图像;-正投影单元(12),用于用通过所述中间图像的正投影,来确定所述虚拟探测数据。
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