[发明专利]电子撞击型x射线源中碎片的减少有效
| 申请号： | 200780026317.0 | 申请日： | 2007-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101490790A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·M·赫茨;迈克尔·奥滕达尔;托米·图希玛 | 申请（专利权）人： | 杰特克公司 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张 波 |
| 地址： | 瑞典斯*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 一种产生x射线辐射的方法，包括步骤：通过在压强下推动液体物质穿过出口来形成靶喷流，该靶喷流传播通过相互作用区域；以及引导至少一个电子束到所述相互作用区域中的所述靶喷流上，从而所述电子束与所述靶喷流相互作用以产生x射线辐射，其中在所述靶喷流的横向方向上所述电子束的半高全宽是所述靶喷流的横向尺寸的约50％或更小。还公开了一种用于实施该方法的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 撞击 射线 碎片 减少 | ||
【主权项】：
1. 一种用于产生x射线辐射的方法，包括步骤：通过在压强下推动液体物质穿过出口来形成靶喷流，该靶喷流传播通过相互作用区域；以及引导至少一个电子束到所述相互作用区域中的所述靶喷流上，从而所述电子束与所述靶喷流相互作用以产生x射线辐射，其中在所述靶喷流的横向方向上所述电子束的半高全宽是所述靶喷流的横向尺寸的约50％或更小。
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