[实用新型]一种真空镀铝膜设备无效
| 申请号： | 200720133513.5 | 申请日： | 2007-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN201144277Y | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 陈建权 | 申请（专利权）人： | 杭州晶鑫镀膜包装有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;C23C14/14 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人： | 俞润体 |
| 地址： | 311200浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种电镀设备，尤其涉及一种真空镀铝膜设备。其包括蒸发源，所述的蒸发源包括感应电源和坩埚，在所述的坩埚外缠绕有感应线圈，感应线圈连接着感应电源；所述的感应电源包括由晶闸管和高频变压器、电容器组成的IGBT逆变器。本实用新型主要是提供了一种铝块可以在坩埚中充分熔炼与脱气，形成稳定蒸发源，消除了大熔滴的飞溅，而且蒸发量大，镀层均匀、速率高、针孔出现几率小的真空镀铝设备；解决现有技术所存在镀铝设备容易产生铝滴飞溅和针孔的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 镀铝 设备 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀铝膜设备，包括蒸发源，其特征在于：所述的蒸发源包括感应电源和坩锅，在所述的坩锅外缠绕有感应线圈，感应线圈连接着感应电源；所述的感应电源包括由晶闸管和高频变压器、电容器组成的IGBT逆变器。
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