[实用新型]微光学器件高速并行直写制作系统无效
| 申请号： | 200720062842.5 | 申请日： | 2007-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN201035320Y | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 颜树华;周春雷;张军;沈少伟;李锷;童慧鹏 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/00;G02F1/13;G02B13/00;G06F3/00;G03F7/26 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 陈晖 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市砚瓦池正*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种微光学器件高速并行直写制作系统，旨在提供一种可采用逐个图形进行曝光的面曝光方式，使其具有内在的并行特性，大大提高微光学器件的制作速度和精度，缩短生产周期，微光学器件特征尺寸可达到微米及亚微米量级，结构简单可靠，生产成本低的微光学器件并行直写制作系统，它包括按下列顺序在光轴线上依次排列的由光源发出的光垂直照射的电寻址空间光调制器、傅里叶变换透镜、空间滤波器、物镜和二维精密位移平台，还包括机内设有图形生成软件的计算机，空间滤波器置于傅里叶变换透镜的后焦面上，空间光调制器通过导线与计算机的显示视频扩展输出口连接。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 器件 高速 并行 制作 系统 | ||
【主权项】：
1.一种微光学器件高速并行直写制作系统，其特征在于它包括按下列顺序在光轴线上依次排列的由光源发出的光垂直照射的电寻址空间光调制器、傅里叶变换透镜、空间滤波器、物镜和二维精密位移平台，还包括机内设有图形生成软件的计算机，空间滤波器置于傅里叶变换透镜的后焦面上，空间光调制器通过导线与计算机的显示视频扩展输出口连接。
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