[实用新型]综合式直写光刻装置

摘要

本实用新型涉及光刻技术领域，解决了现有的分步直写光刻技术效率低，单象素的连续性扫描光刻操作难度大的问题，将两者结合，提供一种综合式直写光刻装置。结构特点是：在透镜和投影镜头之间设有反射镜；两个以上不同倍率的投影镜头设于盘状转换器上，光学定位检测系统包括与转换器上的投影镜头共轴的光学波长分束器，光学波长分束器一侧同轴设有包括检测成像透镜、光敏感探测器的成像系统。该装置采用可变倍率的投影镜头，提高曝光的效率。采用共轴的光学定位检测系统，达到改变的倍率的投影镜头产生的图形能进行无间隙连接。该装置采用直写扫描和精缩排版的混合法，实现光滑的图形轮廓，并提高曝光的效率。

主权项

1.综合式直写光刻装置，包括一个照射图形发生器的光源(1)，一个用于提供照射光束的光学集光系统(2)，一个可编程的图形发生器(3)，一个投影光学系统，一个移动光敏感衬底的精密移动平台(10)；其中光源(1)和光学集光系统(2)同轴对应设于可编程的图形发生器(3)一侧，投影光学系统包括透镜、或透镜组(4)和投影镜头(5)，其特征在于：透镜、或透镜组(4)和投影镜头(5)之间设有反射镜(14)，还包括一个不同倍率的投影镜头的转换器(9)，转换器(9)为盘状，通过转动轴设于机架上，转换器(9)上设有两个以上不同倍率的投影镜头(5)，所述两个以上不同倍率的投影镜头(5)的中心距离转换器(9)转动轴中心线的半径相等；还包括一个光学定位检测系统，所述系统包括与转换器(9)上的投影镜头(5)共轴的光学波长分束器(6)，光学波长分束器(6)一侧同轴设有检测成像透镜(13)和光敏感探测器(8)。