[发明专利]对由图案分成的特征进行基于模式的OPC的方法和设备

摘要

一种用于将包含待成像的特征的目标电路图案分解成为多个图案的方法。该工艺包括以下步骤：将待印制的特征分离成第一图案和第二图案；在第一图案和第二图案上执行第一光学邻近校正工艺；确定第一图案和第二图案的成像性能；确定第一图案和第一图案的成像性能之间的第一误差，以及确定第二图案和第二图案的成像性能之间的第二误差；利用第一误差调整第一图案以产生修正的第一图案；利用第二误差调整第二图案以产生修正的第二图案；以及对修正的第一图案和修正的第二图案应用第二光学邻近校正工艺。

主权项

1. 一种用于将包括待印制到晶片上的特征的目标电路图案分解成为多个图案的方法，包括步骤：将待印制的所述特征分离成第一图案和第二图案；在所述第一图案和所述第二图案上，执行第一光学邻近校正工艺；确定所述第一图案和所述第二图案的成像性能；确定在所述第一图案和所述第一图案的所述成像性能之间的第一误差，以及确定在所述第二图案与所述第二图案的所述成像性能之间的第二误差；利用所述第一误差调整所述第一图案，以产生修正的第一图案；利用所述第二误差调整所述第二图案，以产生修正的第二图案；以及对所述修正的第一图案和所述修正的第二图案应用第二光学邻近校正工艺。