[发明专利]成型装置和成型方法无效

专利信息
申请号: 200710201058.2 申请日: 2007-07-12
公开(公告)号: CN101342771A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 林后尧 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B29C33/44 分类号: B29C33/44;B29C45/40;B29C45/17;B29C45/76
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种成型装置,用于成型元件及脱离带有静电的元件,其包括:一个定模板,至少一个固定于定模板上的凹模,一个与定模板相对设置的动模板,至少一个与凹模相对设置的且固定于动模板上的凸模,多个穿设于动模板的顶针,及一个气体输出装置,所述成型装置进一步包括一个离子发射装置,所述离子发射装置包括一个离子发射器及一个与离子发射器相连的喷管,离子发射器具有一个离子输出端,喷管具有至少一个喷嘴,离子发射器产生并发射的离子由离子输出端输出至喷管,再经由喷管的喷嘴发射,以形成离子束,所述离子束对带有静电的元件产生静电引力作用,从而使其在完成开模到定位后脱离动模板。本发明还涉及一种采用上述装置的成型方法。
搜索关键词: 成型 装置 方法
【主权项】:
1.一种成型装置,用于成型元件及脱离带有静电的元件,其包括:一个定模板,至少一个固定于所述定模板上的凹模,一个与所述定模板相对设置的动模板,至少一个与所述凹模相对设置的且固定于所述动模板上的凸模,多个穿设于所述动模板的顶针,及一个气体输出装置,其特征在于:所述成型装置进一步包括一个离子发射装置,所述离子发射装置包括一个离子发射器及一个与所述离子发射器相连的喷管,所述离子发射器具有一个离子输出端,所述喷管具有至少一个喷嘴,所述离子发射器产生并发射的离子由所述离子输出端输出至所述喷管,再经由所述喷管的喷嘴发射,以形成离子束,所述离子束对带有静电的元件产生静电引力作用,从而使其在完成开模到定位后脱离动模板。
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