[发明专利]磁共振设备中的局部线圈、磁共振设备以及成像方法有效
申请号: | 200710195529.3 | 申请日: | 2007-12-04 |
公开(公告)号: | CN101452065A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 刘克成;陶红艳;高静 | 申请(专利权)人: | 西门子(中国)有限公司 |
主分类号: | G01R33/20 | 分类号: | G01R33/20;G01R33/36;G01R33/38;G01R33/385;A61B5/055 |
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地址: | 100102北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种磁共振设备中的局部线圈。本发明中局部线圈由第一线圈和第二线圈构成,第二线圈针对该局部线圈所处区域进行匀场处理,提高了该区域的主磁场均匀度,且接收磁共振信号的第一线圈所产生的磁场与进行匀场处理的第二线圈所产生的磁场不平行,从而保证二者不会发生耦合、以避免二者相互影响对方性能,因而能够提高该局部线圈所处区域的局部成像质量。而且,将该局部线圈设置于在某些匀场效果较差的区域,例如与主磁场非同心的区域,则其提高局部成像质量的效果尤为明显。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 设备 中的 局部 线圈 以及 成像 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种磁共振设备中的局部线圈,其特征在于,包括:第一线圈(31),用于接收磁共振信号;第二线圈(32),用于对所述局部线圈所处区域的主磁场进行匀场处理;所述第一线圈(31)产生的磁场方向与所述第二线圈(32)产生的磁场方向相交。
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