[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200710166702.7 | 申请日： | 2007-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101178547A | 公开（公告）日： | 2008-05-14 |
| 发明（设计）人： | 巴斯迪尔安·斯特凡努斯·亨德瑞克斯·詹森;埃里克·洛芬夫·鲁普斯卓;马略·瑞文斯博根;马克思·约瑟夫·哈弗 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡斯SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H05B3/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括具有设置在垂直于辐射束的平面上的光学元件阵列。每个光学元件包括用于改变辐射束的光路长度的电加热器件。通过选择性地启动所述电加热器件，可以实现依赖于位置的光路长度的改变，以便对于由辐射引起的光路长度的误差进行校正。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：照射系统，其被构造用于根据强度分布调节辐射束；支架，其被构造用于保持图案形成装置，所述图案形成装置被构造用于赋予所调节的辐射束的横截面图案，以形成带图案的辐射束；衬底台，其被构造用于保持衬底；投影系统，其被构造用于将带图案的辐射束投影到衬底的目标部分上；光学元件阵列，其相对于辐射束横向设置在辐射束的路径上，其中，每个光学元件包括被构造用于对光学元件进行局部加热的可独立寻址的电加热器件；以及控制单元，其被构造用于依赖于在投影系统的光瞳平面上的带图案的辐射束的相位图控制加热器件。
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