[发明专利]一种平面砂带磨光机有效
申请号: | 200710160382.4 | 申请日: | 2007-12-21 |
公开(公告)号: | CN101181779A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 陈美青 | 申请(专利权)人: | 陈美青 |
主分类号: | B24B21/06 | 分类号: | B24B21/06;B24B21/20 |
代理公司: | 台州市方圆专利事务所 | 代理人: | 张智平 |
地址: | 317610*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种平面砂带磨光机,属于机械技术领域。它解决了现有抛光机对工件面进行抛光时工作效率低等问题。本平面砂带磨光机,包括机架,所述的机架上设有主动轮一、从动轮一、主动轮二、从动轮二和两条砂带,其中一条砂带套在主动轮一和从动轮一上,另外一条砂带套在主动轮二和从动轮二上,所述的两条砂带相邻且这两条砂带的抛光工作面处于正对位置,所述的两条砂带上均设有能顶压砂带抛光工作面内侧的顶压机构,且这两个顶压机构处于正对的位置,所述的主动轮一和主动轮二与动力装置相联。它由于具有两根砂带,在对工件进行抛光时可对工件的两个面同时进行抛光作业,因此,它的抛光效率较高。另外它的结构简单,成本较低。 | ||
搜索关键词: | 一种 平面 磨光机 | ||
【主权项】:
1.一种平面砂带磨光机,包括机架(1),其特征在于,所述的机架(1)上设有主动轮一(2)、从动轮一(3)、主动轮二(4)、从动轮二(5)和两条砂带(6),其中一条砂带(6)套在主动轮一(2)和从动轮一(3)上,另外一条砂带(6)套在主动轮二(4)和从动轮二(5)上,所述的两条砂带(6)相邻且这两条砂带(6)的抛光工作面(6a)处于正对位置,所述的两条砂带(6)上均设有能顶压砂带(6)抛光工作面(6a)内侧的顶压机构,且这两个顶压机构处于正对的位置,所述的主动轮一(2)和主动轮二(4)与动力装置相联。
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