[发明专利]用来制造磁头滑块的方法无效

专利信息
申请号: 200710146957.7 申请日: 2007-09-03
公开(公告)号: CN101136209A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 近藤祥;田中幸治;江藤公俊;大岳一郎 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31;B24B19/26
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 李涛;钟强
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 由于在离子铣削期间从空气承载表面侧确定垂直记录磁头的写ELG的前端部位置,同时形成主磁极部,所以被研磨的材料的碎片将重新粘附到与每个ELG的空气承载表面相对侧处的边缘上,导致不稳定的ELG电阻值。ELG电阻值的不稳定性和不一致性使主磁极部的喉部高度的高精度研磨控制成为不可能。ELG 30布置在与排条中的一个写磁头的屏蔽14的镀敷基底层15相同的层上,并且ELG 31、32布置在与另一个写磁头的主磁极部12的层相同的层上。由ELG 31、32的电阻值的变化探测前端部位置(顶部),并且计算研磨的结束位置。由于ELG 31、32的前端部位置(顶部)是准确的,所以通过探测在探测前端部位置(顶部)时存在的这个电阻值可以把相关性赋予主磁极部12的喉部高度“Th”和ELG 30的电阻值。
搜索关键词: 用来 制造 磁头 方法
【主权项】:
1.一种用来制造磁头滑块的方法,该方法包括以下步骤:第一步骤,在晶片上形成各包括读元件的多个读磁头和用于读操作的加工探测图案;第二步骤,在所述多个读磁头的每一个上形成多个写磁头、多个第一加工探测图案及多个第二加工探测图案,该多个写磁头的每一个包括辅助磁极部、主磁极部、线圈及设置在该主磁极部的拖尾侧的屏蔽,该多个第一加工探测图案的每一个通过使用镀敷方法在与适于形成该屏蔽的镀敷基底层相同的层上形成,该多个第二加工探测图案的每一个在包括该主磁极部的层上形成;第三步骤,把所述晶片切削成多个排条;第四步骤,通过将所述排条的表面压在旋转的研磨表面台上,然后在该研磨表面台的径向方向上摆动该排条,及在探测用于所述读操作的所述加工探测图案的电阻值和所述第一和第二加工探测图案的每一个的电阻值的同时研磨该表面,独立地研磨所述排条的每一个的表面,该第四步骤还包括以下步骤:探测所述第二加工探测图案的前端部位置,指定所述主磁极部的元件高度与所述第一加工探测图案的所述电阻值之间的相关性,及在探测所述第一加工探测图案的所述电阻值的同时研磨所述排条的所述表面;及第五步骤,在所述第四步骤的研磨之后,通过开槽空气承载表面,把所述排条切削成单个磁头滑块。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710146957.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top