[发明专利]用于补偿光刻系统中的临界尺寸的不均匀性的系统和方法

摘要

一种系统和方法，用于补偿由照射束中的不同偏振方向所引起的临界尺寸的不均匀性。该系统包括照射系统、构图装置、以及投影系统。照射系统产生辐射的照射束，并包括辐射源和光学系统。辐射源产生辐射束。光学系统在周期的第一部分期间传输照射束的具有第一偏振方向的第一部分，并在周期的第二部分期间传输照射束的具有第二偏振方向的第二部分。构图装置包括具有分别与第一和第二偏振方向相对应的第一和第二光学临近修正的相应第一和第二图案。第一和第二图案对照射束的第一和第二部分的相应部分进行构图。投影系统将第一和第二已构图的束投影到衬底的目标部分上。

主权项

1.一种光刻系统，包括：照射系统，产生辐射的照射束，所述照射系统包括：辐射源，用于产生辐射束；以及光学系统，被配置用于在周期的第一部分期间传输照射束的具有第一偏振方向的第一部分，以及在周期的第二部分期间传输照射束的具有第二偏振方向的第二部分；构图装置，包括具有分别与第一和第二偏振方向相对应的第一和第二光学临近修正的第一和第二图案，所述第一和第二图案对辐射的照射束的第一和第二部分中的相应部分进行构图；以及投影系统，将第一和第二已构图的束投影到衬底的目标部分上。