[发明专利]将图案转印至基板的装置与方法无效
| 申请号： | 200710135795.7 | 申请日： | 2007-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN101216685A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 郑善旭 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种将图案转印至基板的装置与方法。辐射源沿辐射路径导引辐射。沿辐射路径而定位的曝光狭缝将辐射导引于基板处。曝光狭缝具有中心以及边缘部分。沿辐射路径而定位的透镜具有最佳焦点位置。支撑平台支撑基板并沿基板路径相对于辐射路径而移动基板。支撑平台相对于辐射路径以平台角度倾斜，使得穿过曝光狭缝的中心部分的辐射在透镜的最佳焦点位置处与基板接触。滤镜沿辐射路径且相邻于曝光狭缝而定位。滤镜相对于在曝光狭缝的边缘部分处所透射的辐射而在曝光狭缝的中心部分处透射较多辐射。本发明亦描述一种方法。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 转印至基板 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用以将图案转印至基板的装置，包含：(a)辐射源，沿辐射路径导引辐射；(b)曝光狭缝，沿所述辐射路径而定位，用以将所述辐射导引于所述基板处，所述曝光狭缝具有中心部分以及边缘部分；(c)透镜，沿所述辐射路径而定位，并具有最佳焦点位置；(d)支撑平台，用以支撑所述基板，并沿基板路径相对于所述辐射路径而移动所述基板，所述支撑平台相对于所述辐射路径以平台角度倾斜，使得穿过所述曝光狭缝的所述中心部分的所述辐射在所述透镜的所述最佳焦点位置处与所述基板接触；以及(e)滤镜，沿所述辐射路径且相邻于所述曝光狭缝而定位，所述滤镜经安装以相对于在所述曝光狭缝的所述边缘部分处所透射的所述辐射而在所述曝光狭缝的所述中心部分处透射较多所述辐射。
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