[发明专利]一种精密数字化微纳米压印的方法有效
| 申请号： | 200710132387.6 | 申请日： | 2007-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN101131537A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 申溯;陈林森;魏国军;周雷;周小红;解正东;吴智华 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格数码光学有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精密 数字化 纳米 压印 方法 | ||
【主权项】：
1.一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元的大小、形状和图案制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)采用热压印或紫外压印的方法实现一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，直至完成所有微区单元的压印，即实现了所需压印的微纳结构图形的制作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州苏大维格数码光学有限公司;苏州大学，未经苏州苏大维格数码光学有限公司;苏州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710132387.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
