[发明专利]设备、膜形成方法及设备的制造方法有效
| 申请号： | 200710104951.3 | 申请日： | 2007-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN101076211A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 三桥悦央;关俊一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/14 | 分类号： | H05B33/14;H05B33/12;H05B33/10;H05B33/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种防止在隔壁的附近产生的膜的偏斜，能形成均匀的膜的设备。本发明的设备具备：隔壁(B)；在由所述隔壁(B)区划出的区域上设置的膜(F)；在由所述隔壁(B)区划出的区域的外周部上设置的槽(D)。膜(F)通过在由隔壁(B)区划出的区域上配置液体材料(L)而形成，槽(D)的表面的一部分由膜F所覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 形成 方法 制造 | ||
【主权项】：
1、一种设备，具备：隔壁；膜，设置在由所述隔壁区划出的区域；和槽，设置在由所述隔壁区划出的区域的外周部。
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