[发明专利]获得曝光设备聚焦位置的方法和聚焦检测方法无效
| 申请号： | 200710094563.1 | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN101458457A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 林益世;李庆刚;刘乒 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 获得曝光设备聚焦位置的方法，包括：测量经所述曝光设备曝光生成的光敏材料层图案的侧壁角角度；将所述侧壁角角度输入侧壁角角度与曝光设备聚焦位置坐标的函数关系，获得该侧壁角对应的聚焦位置坐标。本发明还提供曝光设备聚焦检测的方法、半导体衬底表面平坦度的检测方法和提高光敏材料层图案侧壁角一致性的方法。本发明的检测方法可在线检测，能够节省时间。 | ||
| 搜索关键词： | 获得 曝光 设备 聚焦 位置 方法 检测 | ||
【主权项】：
1、一种获得曝光设备聚焦位置的方法，其特征在于，包括：测量经所述曝光设备曝光生成的光敏材料层图案的侧壁角角度；将所述侧壁角角度输入侧壁角角度与曝光设备聚焦位置坐标的函数关系，获得该侧壁角对应的聚焦位置坐标。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710094563.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
