[发明专利]图案形成方法

摘要

本发明涉及使用光掩模的图案形成方法，其包括：在基板上形成保护膜的工序；通过光掩模，对保护膜照射曝光光的工序；以及将被曝光光照射过的保护膜显影，形成保护膜图案的工序。光掩模，在透过性基板上具有：对曝光光有遮光性的半遮光部；被半遮光部包围、而且对曝光光有透光性的透光部；以及被半遮光部包围、且位于透光部周边的辅助图案。辅助图案，配置在与透过透光部的光能形成干涉的距离，半遮光部及透光部以彼此相同的相位使曝光光透过，辅助图案，以半遮光部及透光部为基准，用相反的相位使曝光光透过，且不被曝光光复制。

主权项

1、一种图案形成方法，是使用光掩模的图案形成方法，其特征在于，包括：在基板上形成保护膜的工序a；通过所述光掩模，对所述保护膜照射所述曝光光的工序b；以及将被所述曝光光照射过的所述保护膜显影，形成保护膜图案的工序c，所述光掩模，在透过性基板上具有：对曝光光有遮光性的半遮光部；被所述半遮光部包围、而且对所述曝光光有透光性的透光部；以及被所述半遮光部包围、且位于所述透光部周边的辅助图案，所述辅助图案，配置在与透过所述透光部的光能形成干涉的距离，所述半遮光部及所述透光部以彼此相同的相位使所述曝光光透过，所述辅助图案，以所述半遮光部及所述透光部为基准，用相反的相位使所述曝光光透过，且不被所述曝光光复制。