[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200710084419.X | 申请日： | 2007-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101030042A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | B·A·J·卢蒂克休斯;E·A·F·范德帕施;Y·J·G·范德威杰弗;R·范德哈姆;N·J·J·罗塞特;K·J·博沙尔特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置包括测量系统，用来测量基底支撑件相对于参考框架的位置和/或移动。该测量系统包括：靶子，其安装在该部件和参考框架中的一个上；辐射源，其安装在该部件和参考框架中的另一个上；和传感器，用来检测从靶子传播出的辐射的图案，所述图案指示了该基底支撑件的位置或移动。该基底支撑件包括用来提供气流的一个或多个气体出口，该气流包围了该辐射束传播至靶子所经过的空间体积。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：参考框架；测量系统，用来测量该光刻装置的部件相对于所述参考框架的位置和移动中的至少一个，该测量系统包括：靶子，安装在所述部件和参考框架中的一个上；辐射源，安装在所述部件和参考框架中的另一个上，并用来将辐射束投射到所述靶子上；传感器，用来检测从靶子传播出的辐射的图案，所述图案指示了该部件相对于参考框架的位置和移动中的所述至少一个；其中，该部件包括一个或多个气体出口，所述气体出口构造成使得当向所述气体出口供气时，所述辐射束传播至所述靶子所经过的空间体积基本上被来自所述一个或多个气体出口的气流所包围。
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