[发明专利]薄膜压电共振器、其制造方法以及包括其的滤波器无效
申请号: | 200710079154.4 | 申请日: | 2007-02-14 |
公开(公告)号: | CN101026371A | 公开(公告)日: | 2007-08-29 |
发明(设计)人: | 佐野贤也;板谷和彦;尾原亮一;川久保隆 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H03H9/17 | 分类号: | H03H9/17;H03H9/58;H03H3/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;李峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种薄膜压电共振器包括:具有空腔的衬底;第一介电层,设置在所述衬底上以覆盖所述空腔;第二介电层,设置在所述衬底上且设置在所述空腔的周围区域中,且其厚度大于所述第一介电层的厚度;第一电极,设置在所述第一介电层上和所述空腔上方;压电层,设置在所述第一电极上且设置为延伸至所述第二介电层上的区域;以及第二电极,设置在所述压电层上和所述第一电极上方。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 压电 共振器 制造 方法 以及 包括 滤波器 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜压电共振器,包括:具有空腔的衬底;第一介电层,设置在所述衬底上以覆盖所述空腔;第二介电层,设置在所述衬底上且设置在所述空腔的周围区域中,且其厚度大于所述第一介电层的厚度;第一电极,设置在所述第一介电层上和所述空腔上方;压电层,设置在所述第一电极上且设置为延伸至所述第二介电层上的区域;以及第二电极,设置在所述压电层上和所述第一电极上方。
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