[发明专利]一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法有效

专利信息
申请号: 200710062638.8 申请日: 2007-01-12
公开(公告)号: CN100999062A 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 韩福柱;艾福超 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B29/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084北京市100*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法,属于机械工件表面光整加工技术领域。本发明所述抛光方法,是将要抛光的工件放入装有磁流变抛光液的容器中,并加以固定;然后制作与被抛光表面整体形状吻合的整体式磁性抛光模,该整体式磁性抛光模可以用永久磁铁制作,如果是线切割机床加工导磁性工件,也可以直接采用加工掉的另一块工件做导磁性抛光模,与电磁铁一起组成整体式磁性抛光模。然后使整体式磁性抛光模与所要抛光的表面作相对运动进行抛光。利用整体式磁性抛光模的形状适应性和磁流变抛光液的高柔性,就可以对型腔型芯模具及零件进行简单高效的抛光,从而能有效解决复杂型腔型芯表面抛光难题,是一种适用于金属和非金属工件表面抛光方法。
搜索关键词: 一种 模具 零件 整体 流变 抛光 方法
【主权项】:
1.一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法,其特征在于该方法按如下步骤进行:1)将要抛光的工件(4)放入装有磁流变抛光液(2)的容器(1)中,并加以固定;2)制作与被抛光表面整体形状相吻合的整体式磁性抛光模;3)使整体式磁性抛光模与所要抛光的表面作相对运动进行抛光。
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