[发明专利]一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法有效
申请号: | 200710062638.8 | 申请日: | 2007-01-12 |
公开(公告)号: | CN100999062A | 公开(公告)日: | 2007-07-18 |
发明(设计)人: | 韩福柱;艾福超 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B29/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084北京市100*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法,属于机械工件表面光整加工技术领域。本发明所述抛光方法,是将要抛光的工件放入装有磁流变抛光液的容器中,并加以固定;然后制作与被抛光表面整体形状吻合的整体式磁性抛光模,该整体式磁性抛光模可以用永久磁铁制作,如果是线切割机床加工导磁性工件,也可以直接采用加工掉的另一块工件做导磁性抛光模,与电磁铁一起组成整体式磁性抛光模。然后使整体式磁性抛光模与所要抛光的表面作相对运动进行抛光。利用整体式磁性抛光模的形状适应性和磁流变抛光液的高柔性,就可以对型腔型芯模具及零件进行简单高效的抛光,从而能有效解决复杂型腔型芯表面抛光难题,是一种适用于金属和非金属工件表面抛光方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 模具 零件 整体 流变 抛光 方法 | ||
【主权项】:
1.一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法,其特征在于该方法按如下步骤进行:1)将要抛光的工件(4)放入装有磁流变抛光液(2)的容器(1)中,并加以固定;2)制作与被抛光表面整体形状相吻合的整体式磁性抛光模;3)使整体式磁性抛光模与所要抛光的表面作相对运动进行抛光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710062638.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种板栗及其加工方法
- 下一篇:一种异形扳手