[发明专利]高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法无效
申请号: | 200710061505.9 | 申请日: | 2007-02-07 |
公开(公告)号: | CN101012107A | 公开(公告)日: | 2007-08-08 |
发明(设计)人: | 徐耀;盛永刚;吴东;孙予罕 | 申请(专利权)人: | 中国科学院山西煤炭化学研究所 |
主分类号: | C03C17/23 | 分类号: | C03C17/23;C01G23/053 |
代理公司: | 山西五维专利事务所有限公司 | 代理人: | 李毅 |
地址: | 03000*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 一种高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法,钛醇盐先进行快速水解,然后用无机酸胶溶,在溶胶-凝胶过程中形成晶相TiO2纳米颗粒,从而显著提高目标光学薄膜的折射率。本发明具有操作简单、反应条件温和、大面积无规则镀制、设备成本低和光学薄膜折射率高的优点。 | ||
搜索关键词: | 折射率 纳米 tio sub 溶胶 凝胶 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法,其特征在于包括如下步骤:(1)纳米晶溶胶制备:钛酸四异丙酯和乙醇按摩尔比0.5~1∶1反应2~10分钟得到透明液体,将该液体滴加到去离子水中,使钛酸四异丙酯与水的摩尔比为1∶80~120,同时强烈搅拌,形成白色悬浊液后,用无机酸调节pH值在1~3之间,然后经过10~30分钟超声处理,在80~160℃反应5~20小时,得到纳米晶溶胶;(2)光学薄膜镀制:将纳米晶溶胶在50~80℃下浓缩至TiO2质量浓度为3~5%,在转速2000~4000rpm之间采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到基片上,继续旋转10~30分钟,所得薄膜在110~120℃干燥10~30分钟。
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