[发明专利]光罩维护的方法无效
| 申请号： | 200710039781.5 | 申请日： | 2007-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN101290474A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 袁烽;杨金坡 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光罩维护的方法，其中，该方法在光罩进入清洗制程之前，首先采用短波长的光源照射该光罩。短波长光源照射该光罩持续一定时间，以使光罩上残留的液体充分反应形成结晶。短波长光源的波长小于193nm。与现有技术相比，本发明的方法可以便于光罩在清洗制程中被清洗的更干净，清洗后的光罩在使用过程中结晶的生长速度有效减缓，不仅减少了光罩清洗的次数，而且延长了光罩的使用时间，从而提高了最终产品的产率，并相应降低了产品的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 维护 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光罩维护的方法，其特征在于：该方法在光罩进入清洗制程之前，首先采用短波长的光源照射该光罩。
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