[发明专利]太阳能硅晶片清洗剂有效
| 申请号： | 200710020269.6 | 申请日： | 2007-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101020866A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 吴伟峰 | 申请（专利权）人： | 常州君合达克罗涂覆工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/68 | 分类号： | C11D1/68;C11D3/37;H01L21/304;C11D3/20;C11D3/02 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 | 代理人： | 贾海芬 |
| 地址： | 213032江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种太阳能硅晶片清洗剂，其组分按重量百分比，10％～30％的氮川三乙酸钠络合剂，5％～10％的C10－C13羰基异构醇乙氧基化合物表面活性剂，3％～5％的脂肪醇烷氧基化合物表面活性剂，0.05％～0.15％的丙烯酸共聚物钠盐助剂，0.5％～2％的过氧化氢氧化剂，5％～10％的乙二醇丁醚类有机溶剂，1％～5％的氢氧化钾，余量为去离子水或自来水。发明的清洗剂不含有毒、有害及污染环境物质，具有良好的生物降解性能，环保性能好，与传统的清洗剂相比具有较好的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 太阳能 晶片 洗剂 | ||
【主权项】：
1、一种太阳能硅晶片清洗剂，其特征在于：其组分按重量百分比，氮川三乙酸钠络合剂 10％～30％；C10-C13羰基异构醇乙氧基化合物表面活性剂 5％～10％；脂肪醇烷氧基化合物表面活性剂 3％～5％；丙烯酸共聚物钠盐助剂 0.05％～0.15％；过氧化氢氧化剂 0.5％～2％；乙二醇丁醚类有机溶剂 5％～10％；氢氧化钾 1％～5％；去离子水或自来水 余量。
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