[发明专利]碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法无效
| 申请号： | 200710019741.4 | 申请日： | 2007-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101016438A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 孙韬 | 申请（专利权）人： | 孙韬 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/14;B24B29/00 |
| 代理公司： | 扬州市锦江专利事务所 | 代理人： | 江平 |
| 地址： | 226600江苏省海*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法，涉及一种化学制剂的生产领域，主要由水、氧化剂、有机络合剂和研磨剂组成，pH值为7～10；氧化剂、有机络合剂和研磨剂分别占抛光液总质量的0.1％～5％、0.1％～5％、0.5％～20％；研磨剂由维氏硬度大于7的组分A和维氏硬度小于5的组分B组成。形成的中性及碱性介质中的氧化剂、有机金属络合剂、高硬度及低硬度混合组成的摩擦剂，采用硬软兼并的多种抛光摩擦颗粒的方法来降低大颗粒刚玉氧化铝所造成的严重划伤以及提高平化效率。该发明采用碱性抛光介质，其崭新的抛光机理大大降低了对硬盘边缘的抛光损失。而且对抛光机没有任何腐蚀效应，增加了抛光机的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 碱性 计算机 硬盘 抛光 及其 生产 方法 | ||
【主权项】：
1、碱性计算机硬盘抛光液，其特征在于主要由水、氧化剂、有机络合剂和研磨剂组成，pH值为7～10；氧化剂、有机络合剂和研磨剂分别占抛光液总质量的0.1％～5％、0.1％～5％、0.5％～20％；所述研磨剂由维氏硬度大于7的组分A和维氏硬度小于5的组分B组成，研磨剂中组分A和组分B的质量比为1∶0.1～75。
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