[发明专利]超支化聚胺酯/镧/蒙脱土元纳米复合材料及其制备

摘要

本发明提供了一种超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料的制备方法，该方法以超支化聚胺酯(HPAE)树形分子为有机相，包覆稀土粒子镧(La)，并与蒙脱土(MMT)发生插层复合而得。本发明的方法制备的超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料，经TEM、TGA、DSC、UV－vis和FT－IR，测试结果表明，以超支化分子保护的稀土粒子La插入到蒙脱土层间，并均匀地以纳米级分布；其稳定性好、微观分布均匀、光学活性高，可应用于制备稀土永磁材料和荧光材料。

主权项

1、一种超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料的制备方法，包括以下工艺步骤：①将一定量的超支化聚胺酯充分溶于分散介质中，超声搅拌使其充分溶解；②缓慢加入超支化聚胺酯质量0.5～5倍、浓度为0.2～0.5mol/L的无机镧盐水溶液，并加入超支化聚胺酯质量0.015～0.03倍的表面活性剂，在30～60℃下超声分散反应4～6小时；③缓慢加入超支化聚胺酯质量0.8～5倍的经超声分散成浓度为5％～25％的蒙脱土的水溶液，并加入超支化聚胺酯质量0.03～0.08倍的插层剂，在常温下超声搅拌进行插层复合3～8小时；④加入超支化聚胺酯质量0.02～0.06倍的引发剂，在搅拌下反应2～7小时；⑤待溶液变为乳白色，洗涤、干燥即得超支化聚胺酯/镧/蒙脱土三元纳米复合材料。