[发明专利]产生投影或断层造影的相位对比照片的焦点－检测器装置

摘要

本发明涉及一种用于产生投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备(1)的焦点－检测器装置(F，D)。按照本发明，相位光栅(G₁)在其栅条(S)之间的栅空(L)内填加其在关键能量区域内的线形衰减系数比栅条高的填料(B)，其中，一方面可以将填料(B)的高度(h_xF，h_xyF)设计成，使得用于测量相位移的能量的X射线产生一个在X射线中的相位移(φ)，致使在经过相位光栅(G₁)后穿过栅条(S)的射线(a)与穿过带有填料(B)的栅空(L)的射线b相比具有半个波长(λ/2)的相位移，以及另一方面将填料(B)的高度(h_xF，h_xyF)设计成，使得至少针对用于测量相位移(φ)的能量X射线在穿过栅条(S)时和穿过填料(B)时的衰减相同。

主权项

1.一种用于产生检查对象(7，P)的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备(1)的焦点-检测器装置(F，D)，其组成至少如下：1.1.用于产生X射线辐射以及透射检查对象(7，P)的辐射源(2)，1.2.在射线途径内安置在检查对象(7，P)之后的相位光栅(G1)，该相位光栅产生一个在X射线辐射的预定能量区域(E)内X射线辐射的干涉图形，和1.3.分析检测系统，该分析检测系统至少分辨位置地针对相位移检测由相位光栅(G1)产生的干涉图形，其特征在于，1.4.所述相位光栅(G1)在其栅条(S)之间的栅空(L)内填加在关键能量区域内的线形衰减系数比栅条高的填料(B)，另外，1.5.一方面将所述填料(B)的高度(hxF，hxyF)尺寸设计成，使得用于测量相位移的能量及波长(λ)的X射线辐射产生一个在X射线辐射中的相位移()，致使在经过相位光栅(G1)后穿过栅条(S)的射线(a)与穿过带有填料(B)的栅空(L)的射线(b)相比具有半个波长(λ/2)的相位移，1.6.以及另一方面将所述填料(B)的高度(hxF，hxyF)尺寸设计成，使得至少针对用于测量相位移()的能量X射线辐射在穿过栅条(S)时和穿过填料(B)时的衰减相同。