[发明专利]清洁制剂

摘要

本发明涉及一种用于从半导体基片上去除不需要的有机和无机残留物和污染物的含水清洁组合物。所述清洁组合物包含脲衍生物例如二甲基脲作为主要用于从基片去除有机残留物的组分。本发明的清洁组合物中还含有氟离子源，该组分主要用于从基片上去除无机残留物。本发明的清洁组合物具有低毒性并且合乎环境要求。

主权项

1.一种用于从半导体基片上除去残留物的组合物，所述组合物以有效清洁量包含：a)水；b)至少一种式(I)的化合物：其中，R₁和R₃独立地是H，C₁-C₄烷基，或C₁-C₄羟烷基；R₂和R₄独立地是C₁-C₄烷基，或C₁-C₄羟烷基；c)氟离子源；d)任选地，水混溶性的有机溶剂；e)任选地，缓冲剂；和f)任选地，腐蚀抑制剂。