[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200710005990.8 | 申请日： | 2007-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101025573A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | H·M·穆尔德;M·F·A·尤尔林斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，它具有带极化元件的照明系统。多个定向元件将入射束的不同子束反射到可调节的且独立可控的方向上。利用再定向光学器件，可在辐射束的横截面平面内产生任何所需要的极化空间强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：照明系统，包括：反射元件阵列，其按照照明模式来确定辐射束的强度分布，和极化元件，其在该辐射束路径上处于该反射元件阵列之前，该极化元件用于向该辐射束提供极化；支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于按照所需图案对该辐射束进行构图；基底台，用于保持基底；投影系统，用于将该图案化辐射束投影到该基底的靶部上。
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