[发明专利]抗硅氧烷紫外光催化剂有效
| 申请号： | 200680055347.X | 申请日： | 2006-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101511467A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | H·文;T·H·范德斯普特;S·M·奥帕卡;S·D·布兰德斯 | 申请（专利权）人： | 开利公司 |
| 主分类号： | B01J21/00 | 分类号： | B01J21/00;B01D50/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘 冬;韦欣华 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 抗失活光催化剂可通过在合适的底材上涂覆一种或多种光催化剂晶体来制得。所述光催化剂晶体被掺杂剂M所掺杂。所述掺杂剂可用以排斥硅基化合物或用以吸引硅基化合物。在一个实施方案中，所述掺杂剂可均匀地分散在光催化剂晶体中。在另一个实施方案中，所述掺杂剂可只引入到所述结构的表面以下约0.1到约2纳米的光催化剂晶体中。在另一个实施方案中，所述掺杂的光催化剂晶体可与非掺杂的光催化剂晶体交错分散。 | ||
| 搜索关键词： | 抗硅氧烷 紫外 光催化剂 | ||
【主权项】：
1. 一种空气净化系统，包括：底材，和光催化剂，其中所述光催化剂以晶体结构排列，所述晶体结构包含多个掺杂了掺杂剂M的光催化剂晶体，其中所述掺杂剂M吸引硅化合物或排斥硅化合物。
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