[发明专利]ELID 珩磨装置及方法有效
申请号: | 200680054009.4 | 申请日: | 2006-09-08 |
公开(公告)号: | CN101405108A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 林伟民;大森整;山元康立;丸山次郎 | 申请(专利权)人: | 独立行政法人理化学研究所 |
主分类号: | B24B53/00 | 分类号: | B24B53/00;B24B33/10 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种ELID珩磨装置及方法,其具有:珩磨刀具(10),其位于具有中空圆筒内表面的工件(1)的上部,从上端部可摆动地悬挂,可以上下运动且以铅直的旋转轴为中心进行旋转驱动;以及珩磨引导部(20),其位于工件上部附近,将珩磨刀具引导至中空圆筒内表面。珩磨刀具(10)具有:固定引导部(12),其从旋转轴至外周面具有恒定的半径R;以及珩磨磨石(14a)、(14b),其外周面可从比半径R更靠外侧的扩径位置开始至内侧的缩径位置,进行平行移动,且可以电解修整。另外,珩磨引导部(20)具有中空圆筒形的ELID电极(22),其具有引导珩磨刀具的固定引导部的外周面的内表面(22a),可施加负电压。 | ||
搜索关键词: | elid 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种ELID珩磨装置,其具有:珩磨刀具,其位于具有进行珩磨加工的中空圆筒内表面的工件的上部,从上端部可摆动地悬挂,可以进行上下运动,且可以以铅直的旋转轴为中心进行旋转驱动;以及珩磨引导部,其位于接近前述工件上部的位置,将前述珩磨刀具引导至中空圆筒内表面,其特征在于,前述珩磨刀具具有:固定引导部,其从前述旋转轴至外周面具有恒定的半径R;以及珩磨磨石,其外周面可以从比前述半径R更靠外侧的扩径位置开始至内侧的缩径位置进行平行移动,且可以进行电解修整,前述珩磨引导部具有中空圆筒形的ELID电极,该ELID电极具有对珩磨刀具的固定引导部的外周面进行引导的内表面,可施加负电压。
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