[发明专利]高反射层系统,用于制造该层系统的方法和用于实施该方法的设备有效

专利信息
申请号: 200680053109.5 申请日: 2006-09-06
公开(公告)号: CN101379218A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 约尔格·法贝尔;埃克哈特·赖因霍尔德;卡斯滕·多伊斯;汉斯-克里斯蒂安·黑希特;大卫·舒伯特;乌韦·克拉拉普;亨德里克·胡梅尔 申请(专利权)人: 冯·阿德纳设备有限公司
主分类号: C23C28/02 分类号: C23C28/02;C23C28/04;C23C14/02;C23C14/14;C23C14/34
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 车文;郑立
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种高反射层系统,用于以提高反射的层涂覆基底,一种用于制造该层系统的方法以及一种用于实施该方法的设备。在基底(S0)的表面上涂敷第一功能反射层(S3)。该第一功能反射层(S3)可以为反射的或者部分反射的且由金属或者金属合金组成,该金属或者金属合金含有来自铜、镍、铝、钛、钼、锡的组中的一种或多种成分。在该第一功能反射层(S3)上设有第二功能反射层(S5)。该第二功能反射层(S5)可以由金属或者金属合金组成,例如银或者银合金。在该第二功能反射层(S5)上跟着的是第一透明介电层(S7)。该第一透明介电层(S7)例如可以由氧化硅组成。在该第一透明介电层(S7)上设置有第二透明介电层(S8)。该第二透明介电层(S8)例如可以由氧化钛组成。
搜索关键词: 反射层 系统 用于 制造 方法 实施 设备
【主权项】:
1.用于涂覆基底(S0)的高反射层系统,其特征在于,所述层系统至少含有下列层:第一功能反射层(S3)第二功能反射层(S5)透明介电层(S7)透明介电层(S8)。
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