[发明专利]用作H3调节剂的1,1-二氧代-硫代吗啉基吲哚基甲酮衍生物无效
申请号: | 200680044811.5 | 申请日: | 2006-11-20 |
公开(公告)号: | CN101316838A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | 马蒂亚斯·内特科文;让-马克·普朗谢;汉斯·理查德;奥利维耶·罗什;罗莎·玛丽亚·罗德里格斯·萨尔米恩托;斯文·泰勒 | 申请(专利权)人: | 霍夫曼-拉罗奇有限公司 |
主分类号: | C07D401/12 | 分类号: | C07D401/12;C07D401/14;C07D403/12;A61K31/445;A61K31/404;A61P3/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 柳春琦 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及式(I)化合物及其药用盐,其中R1、R2和G如说明书和权利要求书中定义。所述化合物可用于治疗和/或预防与H3受体的调节有关的疾病。 | ||
搜索关键词: | 用作 h3 调节剂 二氧 硫代吗啉基 吲哚 基甲酮 衍生物 | ||
【主权项】:
1.通式I的化合物:
其中R1选自:氢,低级烷基,低级羟基烷基,低级烷氧基烷基,低级卤代烷基,低级环烷基烷基,低级烷酰基,低级烷氧羰基,低级氰基烷基,低级烷基磺酰基,苯基磺酰基,其中苯环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的,所述的基团独立地选自:低级烷基,卤素,氰基,低级卤代烷基,低级烷氧基,低级卤代烷氧基和低级羟基烷基;未取代的或被一个或两个基团取代的苯基,所述的基团独立地选自:低级烷基,卤素,氰基,低级卤代烷基,低级烷氧基,低级卤代烷氧基和低级羟基烷基;低级苯基烷基,其中苯环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的,所述的基团独立地选自:低级烷基,卤素,氰基,低级卤代烷基,低级烷氧基,低级卤代烷氧基和低级羟基烷基;和未取代的或被一个或两个基团取代的杂芳基,所述的基团独立地选自:低级烷基,低级烷氧基,卤素,低级卤代烷基,低级卤代烷氧基和氰基;R2是氢或卤素;G是选自下列基团中的基团:
其中m是0,1或2;R3选自:低级烷基,低级卤代烷基,环烷基,卤代环烷基,低级环烷基烷基和低级苯基烷基;n是0,1或2;R4是低级烷基;p是0,1或2;q是0,1或2;A选自:CR10R10’,O和S;R5,R5’,R6,R6’,R7,R7’,R10和R10’相互独立地选自:氢,低级烷基,羟基,卤素和二烷基氨基,或R6和R10一起形成双键;R8是低级烷基;R9是C3-C6-烷基;及其药用盐。
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