[发明专利]图案曝光方法和图案曝光设备有效
| 申请号： | 200680041182.0 | 申请日： | 2006-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101300528A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 味野敏;藤井武;高田伦久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 将安置有光敏层的带－样工件(11)以工件输送速度V在工件输送方向F上输送。照射部(30)与工件输送速度V相同步的曝光周期T照射光掩模(29)。在距离带－样工件(11)的贴近间隙处布置光掩模(29)。在带－样工件(11)上曝光在光掩模(29)上的掩模图案(33)，以在上面形成周期图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 曝光 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种图案曝光方法，包括下列步骤：连续输送具有光敏层的带-样或片-样工件；和通过以距所述工件的预定贴近间隙布置并且具有掩模图案的光掩模，对所述工件周期地施加接近式曝光达一定的曝光时间，从而在所述工件上形成周期图案，所述周期图案是所述掩模图案沿所述工件的输送方向的周期排列。
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