[发明专利]光刻系统和投影方法

摘要

本发明涉及一种光刻系统，其中电子图像图案被递送至曝光设备用于将图像投影到目标表面，所述曝光设备包括用于控制曝光投影的控制单元，所述控制单元至少部分地包括在所述曝光设备的投影空间中，并且所述控制单元通过光信号被提供有控制数据，所述光信号通过使用包括已调制光束(被发射至所述控制单元的光敏部件)的自由空间光学互连而耦合于所述控制单元中，其中该已调制光束通过使用有孔镜子耦合于所述光敏部件中以便将所述光束同轴入射至所述光敏部件上，所述镜子的孔或可替换的所述镜子的多个孔被提供用于所述曝光投影通过。

主权项

一种光刻系统，其中，电子图像图案被递送至用于将图像投影至目标表面的曝光设备，所述曝光设备包括用于控制曝光投影的控制单元，所述控制单元至少部分被包括在所述曝光设备的投影空间中并且借助于光信号而提供有控制数据，所述光信号通过使用包括已调制光束的自由空间光学互连而被耦合在所述控制单元中，所述已调制光束从发射器部件发射至所述控制单元的光敏部件，其中所述已调制光束通过使用以一定位置和角度施加的以将所述光束同轴入射到所述光敏部件上的有孔镜子而被耦合在所述光敏部件中，所述镜子的孔或可替换的所述镜子的多个孔被提供用于所述曝光投影通过。