[发明专利]二谱线气体光谱校准有效
| 申请号： | 200680035794.9 | 申请日： | 2006-10-04 |
| 公开（公告）号： | CN101287976A | 公开（公告）日： | 2008-10-15 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·豪厄尔 | 申请（专利权）人： | 佐勒技术公司 |
| 主分类号： | G01K1/08 | 分类号： | G01K1/08;G01J5/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于校准吸收光谱测量的方法，其中校准方法包括投射激光通过包含第一数量待测气体和第二数量光谱相同或类似气体(10)的样本。在特定的第一吸收谱线和第二吸收谱线上分别测量激光的第一光谱吸收和第二光谱吸收。确定第一测量的吸收谱线和第二测量的吸收谱线与两个未知变量之间的函数关系。然后，同时求解该函数关系以确定一个或两个未知变量，从而得到与第一数量待测气体有关的测量，校准第二不相干数量的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 二谱线 气体 光谱 校准 | ||
【主权项】：
1.一种用于校准吸收光谱测量的方法，包括：投射激光通过包含第一数量的待测气体和第二数量的光谱相同或类似气体的样本；在第一选取的吸收谱线上测量激光的第一光谱吸收；在第二选取的吸收谱线上测量激光的第二光谱吸收；确定第一测量的光谱吸收与两个未知变量之间的第一函数关系；确定第二测量的光谱吸收与两个未知变量之间的第二函数关系；和同时求解第一函数关系和第二函数关系以确定涉及第一数量的待测气体的信息。
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