[发明专利]等离子处理多孔性原材料的方法及装置无效
| 申请号： | 200680033323.4 | 申请日： | 2006-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101263749A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 河野公一;君岛康太郎;木曾一基 | 申请（专利权）人： | 东燃化学株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;B01J19/08;B01D67/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种对多孔性原材料进行等离子处理的方法，其是使用惰性气体或所述惰性气体及反应性气体的混合气体，使其产生等离子，(a)以相对所述多孔性原材料的每单位面积为0.002～2L/min/cm2的流量，向所述多孔性原材料喷射所得到的等离子气体，或者(b)在所述等离子气体的气氛中吸引所述多孔性原材料，或者(c)以所述流量向所述多孔性原材料喷射所述等离子气体并同时吸引所述多孔性原材料，从而对所述多孔性原材料的表面及细孔内进行等离子处理的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 多孔 原材料 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种方法，其是对多孔性原材料进行等离子处理的方法，其特征在于，使用惰性气体或所述惰性气体及反应性气体的混合气体使其产生等离子，(a)以相对所述多孔性原材料的每单位面积为0.002～2L/min/cm2 的流量，向所述多孔性原材料喷射所得到的等离子气体，或者(b)在所述等离子气体的气氛中吸引所述多孔性原材料，或者(c)以所述流量向所述多孔性原材料喷射所述等离子气体并同时吸引所述多孔性原材料，并且使等离子气体通过所述多孔性原材料。
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