[发明专利]用于光刻设备的照射器

摘要

本发明涉及用于光刻设备的照射器。本发明包括：光束(10)的光源(1’)，其用于照射掩模(8)并使晶片(W)的范围曝光；至少一个微透镜主阵列(4)；以及包括至少一个快门板(61)的快门(6)，该快门板(61)包括对于光束(10)不透明的至少一个部分(612)和对于光束透明的多个部分(610)，由此，所述板(61)可沿与该板基本平行的移动方向(X)相对于光束(10)移动，从而使不透明部分(612)可至少部分地阻挡光束或者使透明部分可至少部分地使光束(10)能够通过。本发明的特征在于，包括移动装置(9)，其可使快门(6)的移动与掩模(8)和晶片(W)的移动同步，所述快门(6)位于邻近光学系统的光瞳(40，410)的范围(11)内，该光学系统至少包括微透镜主阵列(4)。本发明还涉及包括一个这种照射器的光刻设备。

主权项

1.一种光刻设备的照射器，包括：-光束(10)的光源(1’)，所述光束用于照射掩模(8)并使晶片(W)的区域曝光；-至少一个主微透镜阵列(4)；以及-快门(6)，包括至少一个快门板(61)，所述快门板(61)包括：至少一个部分(612)，其对于所述光束(10)是不透明的，以及多个部分(610)，其对于所述光束是透明的，其中，所述快门板(61)能够在基本平行于所述快门板的移动方向(X)上相对于所述光束(10)移动，从而：使不透明的所述部分(612)能够至少部分地阻挡所述光束，或者使透明的所述部分能够允许所述光束(10)至少部分地通过，所述照射器的特征在于：包括移动装置(9)，所述移动装置(9)能够使所述快门(6)与所述掩模(8)和所述晶片(W)同步移动，其中所述快门(6)位于与至少包括所述主微透镜阵列(4)的光学系统的光瞳(40，410)邻近的区域(11)内。