[发明专利]真空装置有效
| 申请号： | 200680029151.3 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN101238542A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 下井英树;杉山浩之;久嶋浩之 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | H01J43/28 | 分类号： | H01J43/28;H01L23/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘春成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，即使在小型化的情况下，也能够充分地维持真空容器的气密性。光电子倍增管(1)包括：平板状的下侧基板(4)、设置在该下侧基板(4)上的框状的框架(3b)、包含夹着低熔点金属而气密地接合于该框架(3b)的开口部的框架(3a)的上侧基板(2)、以及在下侧基板(4)上的框架(3b)的内侧与框架(3b)并列设置的框状的突起(25b)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 | ||
【主权项】：
1.一种真空装置，其特征在于，包括：平板状的基板、设立在所述基板上的框状的侧壁、夹着低熔点金属而气密地接合于所述侧壁的开口部的盖部件、以及在所述基板上的所述侧壁的内侧与所述侧壁并列设置的框状的突起。
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