[发明专利]电子射线照射方法、电子射线照射装置和开口容器用电子射线照射装置有效
申请号: | 200680028409.8 | 申请日: | 2006-09-21 |
公开(公告)号: | CN101297376A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 江口志郎;桥本勋;佐藤重胜;小出英延;桥本信行;铃木崇之;强崎智;彦坂知行;冈本行夫;藤田裕幸 | 申请(专利权)人: | 日本AE帕瓦株式会社 |
主分类号: | G21K5/04 | 分类号: | G21K5/04;A23L3/26;A61L2/08;B65B55/08;G21K5/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供即使是低能量的电子射线,也能够均匀地对对象物照射电子射线的电子射线照射方法和电子射线照射装置。因此,在将电子射线照射区域内所产生的多个磁场接合起来而形成的磁场屏障(MF)内,对饮料容器(30)(对象物)照射电子射线(EB)。 | ||
搜索关键词: | 电子 射线 照射 方法 装置 开口 容器 用电 | ||
【主权项】:
1.一种电子射线照射方法,其特征在于,该电子射线照射方法形成将在电子射线照射区域内产生的多个磁场连接起来的磁场屏障,在该磁场屏障内对对象物照射电子射线。
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