[发明专利]注入式激光器有效
| 申请号： | 200680027590.0 | 申请日： | 2006-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN101233658A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 法西利·艾凡诺维奇·夏维金 | 申请（专利权）人： | 通用纳米光学有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/00 | 分类号： | H01S5/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 塞浦路斯*** | 国省代码： | 塞浦路斯;CY |
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| 摘要： | 注入式激光器用于为用于制造医疗装置、激光产生设备、产生双倍频率辐射的激光器的固态和光纤激光器和放大器充能，并具有用在给定波段中的高效通用的固态放射源的形式，包括用于照明的白光发射器。本发明还涉及超大功率的高效且可靠的注入式表面发射激光器，其以多条输出光束形式辐射，其特征在于，用于通过其外表面发射辐射的新颖且有效的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 注入 激光器 | ||
【主权项】：
1.一种注入式激光器，包括激光器异质结构，所述激光器异质结构包括由至少一个子层组成的至少一个有源层及边缘面、纵向放大轴、光学共振器、由至少一个子层组成的金属化层，其中，在所述异质结构中，在所述纵向放大轴的方向上放置至少一个序列，所述序列包括交替的由至少一个子区组成的至少一个放大区和由至少一个子区组成的至少一个输出区，在所述输出区和所述激光器异质结构的多个层中，存在高于所述放大区并由至少一个子层组成的用于发射漏入的半导体层，通过相应地相对于所述放大区的外表面以一定的线性倾斜角α1和α2设置的所述输出面在所述纵向放大轴的方向上的每个所述输出区的相对侧上限制每个所述输出区，以及所述漏入层的折射率nIN 与其中包括有所述漏入层的所述异质结构的有效折射率neff之比等于大于1的数。
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