[发明专利]包括衍射浮雕结构的多层体及其制备方法有效
| 申请号： | 200680004626.3 | 申请日： | 2006-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101115627A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | R·施陶布;W·R·汤普金;A·席林 | 申请（专利权）人： | OVD基尼格拉姆股份公司 |
| 主分类号： | B42D15/10 | 分类号： | B42D15/10;B44C1/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 龙传红 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及具有部分成形的第一层(3m)的多层体(100)的制备方法以及根据所述方法制备的多层体。本方法特征在于在多层体的复制层(3)的第一区域中成形衍射性第一浮雕结构(4)，在该第一区域中和其中在复制层(3)中没有成形第一浮雕结构的第二区域中将第一层(3m)施加到复制层(3)上，将光敏层施加到第一层(3)上或将光敏性洗涤掩模(8)作为复制层施加到其上，透过第一层(3m)将该光敏层或洗涤掩模曝光以致由于第一和第二区域中的第一浮雕结构而引起该光敏层或洗涤掩模不同地曝光，和在第一区域而不是第二区域中或在第二区域而不是第一区域中使用经曝光的光敏层或洗涤掩模作为掩模层将第一层(3m)除去。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 衍射 浮雕 结构 多层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.具有部分成形的第一层(3m)的多层体(100，100′)的制备方法，其特征在于在多层体的复制层(3)的第一区域中成形衍射性第一浮雕结构(4)，在该第一区域中和其中在复制层(3)中没有成形第一浮雕结构的第二区域中将第一层(3m)施加到复制层(3)上，其中由复制层(3)限定的平面具有恒定的表面密度，将光敏层(8)施加到第一层(3m)上或将光敏性洗涤掩模作为复制层施加到其上，透过第一层(3m)将该光敏层或洗涤掩模(8)曝光以致由于第一和第二区域中的第一浮雕结构而引起该光敏层或洗涤掩模(8)不同地曝光，和在第一区域而不是第二区域中或在第二区域而不是第一区域中使用经曝光的光敏层或洗涤掩模(8)作为掩模层将第一层(3m)除去。
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